膠片用染料研磨均質(zhì)機(jī)

簡(jiǎn)要描述：膠片用染料研磨均質(zhì)機(jī)NKD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：
研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。
*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

產(chǎn)品型號(hào)： NKD2000/4

所屬分類(lèi)：納米均質(zhì)機(jī)

更新時(shí)間：2025-02-25

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     膠片用染料研磨均質(zhì)機(jī)，色漿研磨均質(zhì)機(jī)，漿料研磨均質(zhì)機(jī),色漿研磨機(jī)，高剪切研磨均質(zhì)機(jī)此機(jī)器采用了二級(jí)處理結(jié)構(gòu),*級(jí)采用了高剪切研磨均質(zhì)機(jī)的磨頭模塊,第二季采用了高剪切分散乳化機(jī)的分散乳化模塊,第二級(jí)模塊可根據(jù)客戶(hù)對(duì)物料的處理要求開(kāi)配定轉(zhuǎn)子,定轉(zhuǎn)子可配2P,2G,4M,6F,8SF,且定轉(zhuǎn)子精密度都達(dá)到了水平。

     電影膠片用染料研磨均質(zhì)機(jī)是CIK（上海）公司2013研發(fā)出來(lái)的一款新型產(chǎn)品,該機(jī)特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。
                

 膠片用染料研磨均質(zhì)機(jī)NKD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：

研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

*級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下,凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)?nbsp;在對(duì)輸送性的要求方面,特別要引起注意的是：在粗精度,中等精度,細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個(gè)很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù),狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn) 足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下,機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的,因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

研磨均質(zhì)機(jī)選型表

色漿 CIK研磨均質(zhì)機(jī)有很高的線速度,以及特殊上深下淺的三級(jí)磨頭結(jié)構(gòu),一次處理即可滿(mǎn)足細(xì)化要求。*級(jí)刀頭形狀,可以把相對(duì)大塊的物料進(jìn)行初步粉碎,以便能順利通過(guò)更細(xì)的兩級(jí)進(jìn)行細(xì)微化研磨。 磨頭齒列深度為從開(kāi)始的 2.7mm 到末端的0.7mm,除了更精密之外,上深下淺的齒列結(jié)構(gòu),相較溝槽是直線,同級(jí)的溝槽深度一樣的磨頭,可以保證物 料從上往下一直在進(jìn)行研磨。雖和其它產(chǎn)品一樣磨頭采用三級(jí)磨齒,但他們只能在一級(jí)磨頭到另外一級(jí)磨頭形成研磨效果。

色漿研磨均質(zhì)機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn),運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封,并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻,把泄露概率降到zui低,保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。

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